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产品与服务

Mapper FLX系列产品革命性地使用电子束光刻技术:一方面它是小批量生产的理想设备,用于早期器件的研发、特种器件的小规模量产。另一方面它是一种可扩展的制造方法,可以推动批量生产。与传统光刻技术相结合,通过全面定制的电子束层,可以满足量产的需求。

该系统是基于荷兰及欧洲的精密技术和工业基础上开发的。Mapper将最先进的精密机械、电子、光学和嵌入式软件结合到高性能光刻系统中。Mapper正与台积电和CEA-LETI联合开发这一技术。

对65000个并行电子束的集成实现了高产能。电子束没有中心交叉,使得它们对库仑力(电子排斥)不敏感,克服了电子束曝光的一个弱点。与传统光刻结合,无掩模的高分辨率光刻在200mm和300mm晶圆上可实现广泛的应用。这打开了扩大产品路线图超越现有光学和电子束光刻解决方案能力的大门。

客户利益

从第一天起,Mapper系统就被设计成与现有光刻技术相兼容。光刻胶涂层也与DUV光学曝光的涂层相一致。光学对准传感器可以识别所有常用的套刻误差测量图形。在集成磁屏蔽的保护下,系统可以安装在传统光刻机的旁边。辅助系统可以放置在地下室(sub-fab)或相邻房间中,而不占用昂贵的洁净室空间。晶圆台的绝对格栅精度在纳米范围内。超级计算系统可以轻松地匹配曝光区域中的网格,并做高阶修正,实现每秒三百万像素的快速写入。剂量可以与实时抖动匹配,系统使用非常灵活。

FLX是Mapper的第三代平台,其第一级模块配有65000个子束流。这与上一代的110个子束比,有了大幅提升;子束在将来还可以进一步提升。FLX设计考虑到了未来的需求:它支持分辨率、套刻误差、产能和衬底的进一步提高和扩展。电子枪设计能延伸到650000个子束。设备占用的面积小,保留了足够的维修和服务空间。每小时40片或更高的产能在不远的将来就能实现。

主要特征

  • 电子源输出电流 > 100 mA,工作电压为5 kV
  • 大规模的平行电子光学系统
  • 干涉仪控制的晶圆台能达到纳米精度
  • 可实现300 mm或200 mm工件台
  • 无需专门的电磁环境
  • Mapper数据格式是基于OASIS标准的开源OASIS.
  • 具有与光刻或其他电子束设备相互结合的能力
  • 模块化的设计使得维修和制造更加灵活
  • 该系统符合常用的国际标准和指令(如SEMI标准和其他机器指令)